Dostawa reaktora LPCVD do osadzania warstw Si3N4 i Poli Si

Instytut Technologii Elektronowej

Przedmiotem zamówienia jest dostawa, instalacja, uruchomienie i testowanie fabrycznie nowego reaktora LPCVD do osadzania warstw Si3N4 i Poli Si.

Termin
Termin składania ofert wynosił 2012-01-17. Zamówienie zostało opublikowane na stronie 2011-12-02.

Dostawcy
Następujący dostawcy są wymienieni w decyzjach o przyznaniu zamówienia lub innych dokumentach dotyczących zamówień:
Kto?

Co?

Historia zamówień
Data Dokument
2011-12-02 Ogłoszenie o zamówieniu
2012-02-13 Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia
Powiązane wyszukiwania 🔍