Dostawa, instalacja i uruchomienie urządzenia do mycia wysokociśnieniowego podłoży półprzewodnikowych i masek chromowych

Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych

Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa, instalacja i uruchomienie urządzenia do mycia wysokociśnieniowego podłoży półprzewodnikowych i masek chromowych (semi-automated high pressure single wafer and subtrate cleaning system) przeznaczonego do mycia co najmniej podłoży półprzewodnikowych o średnicy 2”, 3”, 100mm, 150mm, 210mm, i 300mm, fragmentów podłoży półprzewodnikowych o nieregularnych kształtach i rozmiarach od 15mm x 15mm, podłoży kwadratowych (w tym masek chromowych) o rozmiarach 4” x 4”, 5” x 5”, 6” x 6”, 7” x 7”, 8” x 8”. Urządzenie pozwalać ma na programowanie i kontrolę procesów mycia obejmujących mycie co najmniej w roztworze Piranha, mycie podłoży w procesach SC1 i SC2, mycie podłoży w rozcieńczonym roztworze HF (3 %), wysokociśnieniowe mycie podłoży wodą dejonizowaną, procesy mycia ultradźwiękowego (megasonic system), suszenie dyszą z nadmuchem azotowym. Roztwory Piranha, SC1 i SC2 mają być otrzymywane przez łączenie odczynników chemicznych w zadanych proporcjach w trakcie procesu mycia. Zamówienie obejmuje również przeszkolenie pracowników Zamawiającego w zakresie bezpieczeństwa, obsługi i utrzymania technicznego urządzenia oraz stosowania procesów mycia chemicznego, wysokociśnieniowego i ultradźwiękowego.

Termin
Termin składania ofert wynosił 2012-10-19. Zamówienie zostało opublikowane na stronie 2012-09-07.

Kto?

• • Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych

Co?

• • Sprzęt laboratoryjny, optyczny i precyzyjny (z wyjątkiem szklanego)