Dostawa dwóch urządzeń do kopiowania i wykonywania replik mikro- i nanostruktur w procesach nanoimprintu wraz z wyposażeniem dla Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych w Warszawie
Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa (rozumiana jako sprzedaż, dostarczenie do siedziby zamawiającego, montaż, zainstalowanie, uruchomienie oraz przeprowadzenie testów odbiorczych) dwóch kompletnych, fabrycznie nowych urządzeń do kopiowania i wykonywania replik mikro- i nanostruktur w procesach nanoimprintu, to jest:
1) urządzenia do centrowania i kopiowania (wykonywania replik) mikro- i nanostruktur w procesach nanoimprintu z wykorzystaniem promieniowania UV (Semi-automated Double Side Nano Imprint Lithography System, dalej nazywanego w skrócie „UV NIL”), do centrowania i kopiowania masek chromowych w standardowych procesach fotolitograficznych (Mask Alignment Lithography) oraz centrowania optycznego podłoży przeznaczonych do obróbki w procesach tłoczenia na gorąco (hot embossing) lub łączenia podłoży (wafer bonding),
2) urządzenia do kopiowania (wykonywania replik) mikro- i nanostruktur w procesach tłoczenia na gorąco (Hot Embossing Nano Imprint Lithography System, dalej nazywanego w skrócie „HE NIL”) z funkcją kopiowania wzorów na podłożach wycentrowanych optycznie względem stempla,
o parametrach zgodnych (lub lepszych) z określonymi odpowiednio w Tabeli 1 (UV NIL) i Tabeli 2 (HE NIL) załącznika nr 1 do niniejszej specyfikacji istotnych warunków zamówienia pt. „Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia”.
Oba urządzenia muszą być ze sobą kompatybilne w zakresie wyposażenia umożliwiającego precyzyjne optyczne centrowanie wzorców (masek lub stempli) i podłoży wykorzystywanych do wytwarzania struktur w procesach UV NIL, jak i w procesach HE NIL.
Podstawowe funkcje systemu UV NIL obejmować muszą:
— kopiowanie struktur w procesach nanoimprintu z wykorzystaniem promieniowania UV (UV Nano Imprint Lithography),
— kopiowanie masek chromowych w standardowych procesach fotolitografii (Mask Alignment Lithography) w różnych trybach pracy: kopiowanie z kontrolowanym odstępem (proximity), kopiowanie w ‘miękkim' kontakcie (soft contact) z regulowaną siłą docisku, kopiowanie stykowe z siłą docisku regulowaną ciśnieniem gazu roboczego (hard contact), kopiowanie stykowe z siłą docisku regulowaną poziomem próżni (vacuum contact), oraz kombinacja obu powyższych trybów (hard+vacuum contact),
— jednostronne i dwustronne centrowanie optyczne dla wymienionych powyżej procesów,
— centrowanie optyczne wzorca (stempla) do podłoży (w tym układu kilku podłoży) przeznaczonych do dalszej obróbki w procesach tłoczenia na gorąco (uchwyty i wyposażenie kompatybilne z urządzeniem Hot Embossing Nano Imprint Lithography),
— programowanie, sterowanie i kontrolę procesów kopiowania oraz diagnostykę urządzenia poprzez graficzny interfejs użytkownika.
Podstawowe funkcje systemu HE NIL obejmować muszą:
— wytwarzanie mikro- i nanostruktur w jednolitych materiałach (podłoża polimerowe lub ze szkieł niskotopliwych) w procesie tłoczenia na gorąco (hot embossing),
— wytwarzanie mikro- i nanostruktur w procesie kopiowania termicznego (thermal imprinting) w warstwach polimerów naniesionych na podłoża,
— prowadzenie procesów HE NIL w próżni i przy zwiększonym ciśnieniu,
— programowanie i kontrolę temperatury grzania stempla i podłoża w zakresie do co najmniej 550 st. C,
— programowanie i kontrolę siły docisku stempla w zakresie do co najmniej 10 kN,
— automatyczne rozłączenie stempla od wytworzonego wzoru (deembossing) wewnątrz komory roboczej,
— programowanie, sterowanie i kontrolę procesów kopiowania oraz diagnostykę urządzenia poprzez graficzny interfejs użytkownika.
Konfiguracja systemu HE NIL umożliwiać ma wykonywanie procesów dla elementów wcześniej wycentrowanych optycznie w systemie UV NIL, a także pozwalać na możliwość rozbudowy o moduły umożliwiające łączenie podłoży (wafer bonding).
Zamówienie obejmuje również przeszkolenie pracowników Zamawiającego w zakresie technologii, obsługi i utrzymania technicznego urządzenia oraz stosowania procesów kopiowania.
Oferowane systemy mają być sprawdzonymi, znanymi na rynku urządzeniami. Wykonawca jednoznacznie określi oferowane urządzenia poprzez podanie producenta/marki oraz nazwy typu/modelu w składanej ofercie.
Termin
Termin składania ofert wynosił 2013-07-05.
Zamówienie zostało opublikowane na stronie 2013-05-24.
Dostawcy
Następujący dostawcy są wymienieni w decyzjach o przyznaniu zamówienia lub innych dokumentach dotyczących zamówień:
Kto?
Co?
Historia zamówień
| Data |
Dokument |
| 2013-05-24
|
Ogłoszenie o zamówieniu
|
| 2013-09-03
|
Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia
|