Dostawa dwóch urządzeń do kopiowania i wykonywania replik mikro- i nanostruktur w procesach nanoimprintu wraz z wyposażeniem dla Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych w Warszawie

Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych

Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa (rozumiana jako sprzedaż, dostarczenie do siedziby zamawiającego, montaż, zainstalowanie, uruchomienie oraz przeprowadzenie testów odbiorczych) dwóch kompletnych, fabrycznie nowych urządzeń do kopiowania i wykonywania replik mikro- i nanostruktur w procesach nanoimprintu, to jest:
1) urządzenia do centrowania i kopiowania (wykonywania replik) mikro- i nanostruktur w procesach nanoimprintu z wykorzystaniem promieniowania UV (Semi-automated Double Side Nano Imprint Lithography System, dalej nazywanego w skrócie „UV NIL”), do centrowania i kopiowania masek chromowych w standardowych procesach fotolitograficznych (Mask Alignment Lithography) oraz centrowania optycznego podłoży przeznaczonych do obróbki w procesach tłoczenia na gorąco (hot embossing) lub łączenia podłoży (wafer bonding),
2) urządzenia do kopiowania (wykonywania replik) mikro- i nanostruktur w procesach tłoczenia na gorąco (Hot Embossing Nano Imprint Lithography System, dalej nazywanego w skrócie „HE NIL”) z funkcją kopiowania wzorów na podłożach wycentrowanych optycznie względem stempla,
o parametrach zgodnych (lub lepszych) z określonymi odpowiednio w Tabeli 1 (UV NIL) i Tabeli 2 (HE NIL) załącznika nr 1 do niniejszej specyfikacji istotnych warunków zamówienia pt. „Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia”.
Oba urządzenia muszą być ze sobą kompatybilne w zakresie wyposażenia umożliwiającego precyzyjne optyczne centrowanie wzorców (masek lub stempli) i podłoży wykorzystywanych do wytwarzania struktur w procesach UV NIL, jak i w procesach HE NIL.
Podstawowe funkcje systemu UV NIL obejmować muszą:
— kopiowanie struktur w procesach nanoimprintu z wykorzystaniem promieniowania UV (UV Nano Imprint Lithography),
— kopiowanie masek chromowych w standardowych procesach fotolitografii (Mask Alignment Lithography) w różnych trybach pracy: kopiowanie z kontrolowanym odstępem (proximity), kopiowanie w ‘miękkim' kontakcie (soft contact) z regulowaną siłą docisku, kopiowanie stykowe z siłą docisku regulowaną ciśnieniem gazu roboczego (hard contact), kopiowanie stykowe z siłą docisku regulowaną poziomem próżni (vacuum contact), oraz kombinacja obu powyższych trybów (hard+vacuum contact),
— jednostronne i dwustronne centrowanie optyczne dla wymienionych powyżej procesów,
— centrowanie optyczne wzorca (stempla) do podłoży (w tym układu kilku podłoży) przeznaczonych do dalszej obróbki w procesach tłoczenia na gorąco (uchwyty i wyposażenie kompatybilne z urządzeniem Hot Embossing Nano Imprint Lithography),
— programowanie, sterowanie i kontrolę procesów kopiowania oraz diagnostykę urządzenia poprzez graficzny interfejs użytkownika.
Podstawowe funkcje systemu HE NIL obejmować muszą:
— wytwarzanie mikro- i nanostruktur w jednolitych materiałach (podłoża polimerowe lub ze szkieł niskotopliwych) w procesie tłoczenia na gorąco (hot embossing),
— wytwarzanie mikro- i nanostruktur w procesie kopiowania termicznego (thermal imprinting) w warstwach polimerów naniesionych na podłoża,
— prowadzenie procesów HE NIL w próżni i przy zwiększonym ciśnieniu,
— programowanie i kontrolę temperatury grzania stempla i podłoża w zakresie do co najmniej 550 st. C,
— programowanie i kontrolę siły docisku stempla w zakresie do co najmniej 10 kN,
— automatyczne rozłączenie stempla od wytworzonego wzoru (deembossing) wewnątrz komory roboczej,
— programowanie, sterowanie i kontrolę procesów kopiowania oraz diagnostykę urządzenia poprzez graficzny interfejs użytkownika.
Konfiguracja systemu HE NIL umożliwiać ma wykonywanie procesów dla elementów wcześniej wycentrowanych optycznie w systemie UV NIL, a także pozwalać na możliwość rozbudowy o moduły umożliwiające łączenie podłoży (wafer bonding).
Zamówienie obejmuje również przeszkolenie pracowników Zamawiającego w zakresie technologii, obsługi i utrzymania technicznego urządzenia oraz stosowania procesów kopiowania.
Oferowane systemy mają być sprawdzonymi, znanymi na rynku urządzeniami. Wykonawca jednoznacznie określi oferowane urządzenia poprzez podanie producenta/marki oraz nazwy typu/modelu w składanej ofercie.

Termin składania ofert wynosił 2013-07-05. Zamówienie zostało opublikowane na stronie 2013-05-24.

Następujący dostawcy są wymienieni w decyzjach o przyznaniu zamówienia lub innych dokumentach dotyczących zamówień:

• • EV Group Europe & Asia/Pacific GmbH

• • Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych

• • Sprzęt laboratoryjny, optyczny i precyzyjny (z wyjątkiem szklanego)

• • Miasto Warszawa