Dostawa, instalacja i uruchomienie urządzenia do mycia wysokociśnieniowego podłoży półprzewodnikowych i
Dostawa, instalacja i uruchomienie urządzenia do mycia wysokociśnieniowego podłoży półprzewodnikowych i masek chromowych (semi-automated high pressure single wafer and substrate cleaning system) zgodnego z wymaganiami Zamawiającego, określonymi w „Szczegółowej charakterystyce przedmiotu zamówienia” stanowiącej załącznik nr 1 do niniejszej SIWZ, przeznaczonego do mycia podłoży półprzewodnikowych oraz masek chromowych o rozmiarach obejmujących co najmniej:
1) podłoża półprzewodnikowe o średnicy 2”, 3”, 100 mm i 150 mm,
2) fragmentów podłoży półprzewodnikowych o nieregularnych kształtach i rozmiarach od 15 mm x 15 mm,
3) masek chromowych o rozmiarach 4” x 4”, 5” x 5”, 6” x 6”, 7” x 7”.
Urządzenie pozwalać ma na programowanie i kontrolę procesów mycia obejmujących co najmniej mycie podłoży w roztworze Piranha, mycie w procesach SC1 i SC2, mycie podłoży w rozcieńczonym roztworze HF (3%), wysokociśnieniowe mycie wodą dejonizowaną, procesy mycia ultradźwiękowego (megasonic system), suszenie dyszą z nadmuchem azotowym. Roztwory Piranha, SC1 i SC2 mają być otrzymywane przez łączenie odczynników chemicznych w zadanych proporcjach w trakcie procesu mycia.
Zamówienie obejmuje również przeszkolenie pracowników Zamawiającego w zakresie bezpieczeństwa, obsługi i utrzymania technicznego urządzenia oraz stosowania procesów mycia chemicznego, wysokociśnieniowego i ultradźwiękowego.
Kod CPV według Wspólnego Słownika Zamówień Publicznych (CPV):
38.00.00.00-5 – Sprzęt laboratoryjny, optyczny i precyzyjny (z wyjątkiem szklanego)
Termin
Termin składania ofert wynosił 2013-05-29.
Zamówienie zostało opublikowane na stronie 2013-04-18.
Dostawcy
Następujący dostawcy są wymienieni w decyzjach o przyznaniu zamówienia lub innych dokumentach dotyczących zamówień:
Kto?
Co?
Historia zamówień
| Data |
Dokument |
| 2013-04-18
|
Ogłoszenie o zamówieniu
|
| 2013-09-03
|
Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia
|