Dostawa systemu osadzania warstw atomowych (ALD) wraz z wyposażeniem dla Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych w Warszawie

Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych

Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa fabrycznie nowego systemu osadzania warstw atomowych – (ALD - atomic layer deposition) wraz z wyposażeniem, przeznaczonego do osadzania warstw półprzewodników i dielektryków w trzech trybach:
a) Termicznego ALD
b) Termicznego ALD w trybie ekspozycji (tryb wzmocnionej dyfuzji reagentów)
c) Osadzania ALD wspomaganego plazmą.
Osadzanie warstw ma się odbywać na półprzewodnikowych lub innych krystalicznych podłożach płaskich lub podłożach o powierzchniach rozwiniętych, których współczynnik kształtu (stosunek szerokości do głębokości rowka) jest rzędu kilkuset. Temperatura podłoża powinna być kontrolowana w zakresie do 500oC. Maksymalna średnica podłoża do 200mm. Wymagania Zamawiającego odnośnie parametrów technicznych systemu określa załącznik nr 1 do niniejszej siwz pt. „Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia”.
Przedmiot zamówienia obejmuje również:
(1) wykonanie testów odbiorczych systemu uruchomionego u Zamawiającego w zakresie podanym w tabeli nr 1,
(2) przeszkolenie pracowników Zamawiającego w zakresie obsługi systemu i oprogramowania w zakresie podanym w tabeli nr 1.
Zamawiający wymaga, aby urządzenia wchodzące w skład systemu podlegały serwisowaniu na terytorium Rzeczpospolitej Polskiej.

Termin

Termin składania ofert wynosił 2013-10-29. Zamówienie zostało opublikowane na stronie 2013-09-16.

Dostawcy

Następujący dostawcy są wymienieni w decyzjach o przyznaniu zamówienia lub innych dokumentach dotyczących zamówień:

Kto? Co? Gdzie?
Historia zamówień
Data Dokument
2013-09-16 Ogłoszenie o zamówieniu
2014-02-12 Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia
Ogłoszenie o zamówieniu (2013-09-16)
Obiekt
Zakres zamówienia
Tytuł: Sprzęt laboratoryjny, optyczny i precyzyjny (z wyjątkiem szklanego)
Wielkość lub zakres:
Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa fabrycznie nowego systemu osadzania warstw atomowych – (ALD - atomic layer deposition) wraz z wyposażeniem, przeznaczonego do osadzania warstw półprzewodników i dielektryków w trzech trybach:a) Termicznego ALDb) Termicznego ALD w trybie ekspozycji (tryb wzmocnionej dyfuzji reagentów)c) Osadzania ALD wspomaganego plazmą.Osadzanie warstw ma się odbywać na półprzewodnikowych lub innych krystalicznych podłożach płaskich lub podłożach o powierzchniach rozwiniętych, których współczynnik kształtu (stosunek szerokości do głębokości rowka) jest rzędu kilkuset. Temperatura podłoża powinna być kontrolowana w zakresie do 500oC. Maksymalna średnica podłoża do 200mm. Wymagania Zamawiającego odnośnie parametrów technicznych systemu określa załącznik nr 1 do niniejszej siwz pt. „Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia”.Przedmiot zamówienia obejmuje również:(1) wykonanie testów odbiorczych systemu uruchomionego u Zamawiającego w zakresie podanym w tabeli nr 1,(2) przeszkolenie pracowników Zamawiającego w zakresie obsługi systemu i oprogramowania w zakresie podanym w tabeli nr 1.Zamawiający wymaga, aby urządzenia wchodzące w skład systemu podlegały serwisowaniu na terytorium Rzeczpospolitej Polskiej.1 544 000
Pokaż więcej
Całkowita wartość zamówienia: 1 544 000 💰
Metadane ogłoszenia
Język oryginału: polski 🗣️
Typ dokumentu: Ogłoszenie o zamówieniu
Rodzaj zamówienia: Dostawy
Regulacja: Unia Europejska
Wspólny słownik zamówień (CPV)
Kod: Sprzęt laboratoryjny, optyczny i precyzyjny (z wyjątkiem szklanego) 📦

Procedura
Typ procedury: Procedura otwarta
Typ oferty: Wniosek dotyczący wszystkich partii
Kryteria przyznawania nagród
Najniższa cena

Instytucja zamawiająca
Tożsamość
Kraj: Polska 🇵🇱
Typ instytucji zamawiającej: Inne
Nazwa instytucji zamawiającej: Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Adres pocztowy: Wólczyńska 133
Kod pocztowy: 01-919
Miasto pocztowe: Warszawa
Kontakt
Adres internetowy: http://www.itme.edu.pl 🌏
E-mail: slawomir.strelau@itme.edu.pl 📧
Telefon: +48 228353536 📞
Fax: +48 228349220 📠

Odniesienie
Daty
Data wysłania: 2013-09-16 📅
Termin składania ofert: 2013-10-29 📅
Data publikacji: 2013-09-18 📅
Identyfikatory
Numer ogłoszenia: 2013/S 181-311931
Numer Dz.U.-S: 181

Obiekt
Zakres zamówienia
Krótki opis:
Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa fabrycznie nowego systemu osadzania warstw atomowych – (ALD - atomic layer deposition) wraz z wyposażeniem, przeznaczonego do osadzania warstw półprzewodników i dielektryków w trzech trybach:
a) Termicznego ALD
b) Termicznego ALD w trybie ekspozycji (tryb wzmocnionej dyfuzji reagentów)
c) Osadzania ALD wspomaganego plazmą.
Osadzanie warstw ma się odbywać na półprzewodnikowych lub innych krystalicznych podłożach płaskich lub podłożach o powierzchniach rozwiniętych, których współczynnik kształtu (stosunek szerokości do głębokości rowka) jest rzędu kilkuset. Temperatura podłoża powinna być kontrolowana w zakresie do 500oC. Maksymalna średnica podłoża do 200mm. Wymagania Zamawiającego odnośnie parametrów technicznych systemu określa załącznik nr 1 do niniejszej siwz pt. „Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia”.
Pokaż więcej
Przedmiot zamówienia obejmuje również:
(1) wykonanie testów odbiorczych systemu uruchomionego u Zamawiającego w zakresie podanym w tabeli nr 1,
(2) przeszkolenie pracowników Zamawiającego w zakresie obsługi systemu i oprogramowania w zakresie podanym w tabeli nr 1.
Zamawiający wymaga, aby urządzenia wchodzące w skład systemu podlegały serwisowaniu na terytorium Rzeczpospolitej Polskiej.
Wielkość lub zakres:
Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa fabrycznie nowego systemu osadzania warstw atomowych – (ALD - atomic layer deposition) wraz z wyposażeniem, przeznaczonego do osadzania warstw półprzewodników i dielektryków w trzech trybach:
a) Termicznego ALD
b) Termicznego ALD w trybie ekspozycji (tryb wzmocnionej dyfuzji reagentów)
c) Osadzania ALD wspomaganego plazmą.
Osadzanie warstw ma się odbywać na półprzewodnikowych lub innych krystalicznych podłożach płaskich lub podłożach o powierzchniach rozwiniętych, których współczynnik kształtu (stosunek szerokości do głębokości rowka) jest rzędu kilkuset. Temperatura podłoża powinna być kontrolowana w zakresie do 500oC. Maksymalna średnica podłoża do 200mm. Wymagania Zamawiającego odnośnie parametrów technicznych systemu określa załącznik nr 1 do niniejszej siwz pt. „Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia”.
Pokaż więcej
Przedmiot zamówienia obejmuje również:
(1) wykonanie testów odbiorczych systemu uruchomionego u Zamawiającego w zakresie podanym w tabeli nr 1,
(2) przeszkolenie pracowników Zamawiającego w zakresie obsługi systemu i oprogramowania w zakresie podanym w tabeli nr 1.
Zamawiający wymaga, aby urządzenia wchodzące w skład systemu podlegały serwisowaniu na terytorium Rzeczpospolitej Polskiej.
Czas trwania: 168 dni
Numer referencyjny: ZP/019/2013
Miejsce wykonania
Główne miejsce lub miejsce wykonywania działalności:
ul. Wólczyńska 133
01-919 Warszawa

Informacje prawne, ekonomiczne, finansowe i techniczne
Warunki uczestnictwa
Zdolność do prowadzenia działalności zawodowej: Zgodnie z SIWZ
Sytuacja gospodarcza i finansowa: Zgodnie z SIWZ
Zdolności techniczne i zawodowe: Zgodnie z SIWZ
Realizacja zamówienia
Wymagane depozyty i gwarancje:
Wymagania dotyczące wadium:
1. W niniejszym postępowaniu Zamawiający wymaga wniesienia wadium w wysokości 50 000 PLN (słownie: pięćdziesiąt tysięcy złotych).
2. Wadium wnosi się przed upływem terminu składania ofert.
3. Wadium może być wnoszone w jednej lub kilku następujących formach:
a) pieniądzu;
b) poręczeniach bankowych lub poręczeniach spółdzielczej kasy oszczędnościowo-kredytowej, z tym że poręczenie kasy jest zawsze poręczeniem pieniężnym;
c) gwarancjach bankowych;
d) gwarancjach ubezpieczeniowych;
e) poręczeniach udzielanych przez podmioty, o których mowa w art. 6b ust. 5 pkt 2 ustawy z dnia 9 listopada 2000 r. o utworzeniu Polskiej Agencji Rozwoju Przedsiębiorczości (Dz. U. Z 2007 r. Nr 42, poz. 275, z 2008 r. Nr 116, poz. 730 i 732 i Nr 227, poz. 1505 oraz z 2010 r. Nr 96, poz. 620).
Pokaż więcej
4. Wadium wnoszone w pieniądzu wpłaca się przelewem na rachunek bankowy Zamawiającego: 73 1030 1032 0000 0000 0876 0304 z dopiskiem „WADIUM W PRZETARGU NIEOGRANICZONYM ZP/019/2013 NA DOSTAWĘ SYSTEMU OSADZANIA WARSTW ATOMOWYCH (ALD) DLA ITME”.
5. Wadium wnoszone w innej formie, niż w pieniądzu powinno zostać złożone w kasie ITME w budynku nr 2 pokój 189 w dni robocze w godzinach 12:00 – 15:00 w zamkniętej kopercie opisanej jak oferta z dopiskiem „WADIUM W PRZETARGU NIEOGRANICZONYM ZP/019/2013 NA DOSTAWĘ SYSTEMU OSADZANIA WARSTW ATOMOWYCH (ALD) DLA ITME”. Wadium musi zachowywać ważność przez cały okres związania ofertą. Zawartość kopert zostanie sprawdzona w toku prac komisji przetargowej Zamawiającego związanych z analizą dokumentów przedłożonych przez Wykonawcę.
Pokaż więcej
6. Wadium wniesione w pieniądzu Zamawiający przechowa na rachunku bankowym.
7. Zamawiający zwróci wadium wszystkim Wykonawcom niezwłocznie po wyborze oferty najkorzystniejszej lub unieważnieniu postępowania, z wyjątkiem Wykonawcy, którego oferta została wybrana jako najkorzystniejsza. Zamawiający zatrzyma wadium wraz z odsetkami, jeżeli Wykonawca w odpowiedzi na wezwanie Zamawiającego, o którym mowa w art. 26 ust. 3 Ustawy prawo zamówień publicznych, nie złożył dokumentów lub oświadczeń, o których mowa w art. 25 ust. 1 Ustawy, lub pełnomocnictw, chyba że udowodni, że wynika to z przyczyn nieleżących po jego stronie.
Pokaż więcej
8. Wykonawcy, którego oferta została wybrana jako najkorzystniejsza, Zamawiający zwróci wadium niezwłocznie po zawarciu umowy w sprawie zamówienia publicznego oraz wniesieniu zabezpieczenia należytego wykonania umowy.
9. Zamawiający zwróci niezwłocznie wadium na wniosek Wykonawcy, który wycofał ofertę przed upływem terminu składania ofert.
10. Zamawiający żąda ponownego wniesienia wadium przez Wykonawcę, któremu zwrócono wadium na podstawie punktu 7 powyżej, jeżeli w wyniku rozstrzygnięcia odwołania jego oferta została wybrana jako najkorzystniejsza. Wykonawca wnosi wadium w terminie określonym przez Zamawiającego.
Pokaż więcej
11. Jeżeli wadium wniesiono w pieniądzu, Zamawiający zwróci je wraz z odsetkami wynikającymi z umowy rachunku bankowego, na którym było ono przechowywane, pomniejszone o koszty prowadzenia rachunku bankowego oraz prowizji bankowej za przelew pieniędzy na rachunek bankowy wskazany przez Wykonawcę.
Pokaż więcej
12. Zamawiający zatrzymuje wadium wraz z odsetkami, jeżeli Wykonawca, którego oferta została wybrana:
a) odmówił podpisania umowy w sprawie zamówienia publicznego na warunkach określonych w ofercie;
b) zawarcie umowy w sprawie zamówienia publicznego stało się niemożliwe z przyczyn leżących po stronie Wykonawcy.

Procedura
Okres ważności oferty: 60 dni
Data otwarcia ofert: 2013-10-29 📅
Miejsce otwarcia: Warszawa, ul. Wólczyńska 133
Miejsce: Warszawa, ul. Wólczyńska 133
Języki
Język: polski 🗣️

Instytucja zamawiająca
Tożsamość
Inny rodzaj instytucji zamawiającej: Other
Kontakt
Punkt kontaktowy: Sławomir Strelau

Odniesienie
Identyfikatory
Numer referencyjny nadany przez instytucję zamawiającą: ZP/019/2013

Informacje uzupełniające
Organ kontrolny
Nazwa: Urząd Zamówień Publicznych
Adres pocztowy: ul. Postępu 17a
Miasto pocztowe: Warszawa
Kod pocztowy: 02-676
Kraj: Polska 🇵🇱
Telefon: +48 224587701 📞
Fax: +48 224587700 📠
Informacje o terminach składania odwołań:
Odwołanie wnosi się w terminie 10 dni od dnia przesłania informacji o czynności Zamawiającego stanowiącej podstawę jego wniesienia – jeśli zostały przesłane faksem lub drogą elektroniczną albo w terminie 15 dni jeśli zostały przesłane w inny sposób.
Organ odpowiedzialny za procedury mediacyjne
Tak samo jak: Organ kontrolny
Źródło: OJS 2013/S 181-311931 (2013-09-16)
Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia (2014-02-12)
Obiekt
Zakres zamówienia
Całkowita wartość zamówienia: 1 544 000 💰
Metadane ogłoszenia
Typ dokumentu: Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia
Regulacja: Nie określono

Procedura
Typ oferty: Nie dotyczy

Odniesienie
Daty
Data wysłania: 2014-02-12 📅
Data publikacji: 2014-02-14 📅
Identyfikatory
Numer ogłoszenia: 2014/S 032-051437
Odnosi się do ogłoszenia: 2013/S 181-311931
Numer Dz.U.-S: 32

Obiekt
Zakres zamówienia
Numer referencyjny: ZP/019/2013.

Udzielenie zamówienia
Data zawarcia umowy: 2013-12-13 📅
Nazwa: Devmatech Spółka Jawna E. Bojarski
Adres pocztowy: ul. Grodkowska 6/109
Miasto pocztowe: Warszawa
Kod pocztowy: 01-461
Kraj: Polska 🇵🇱
Informacje o przetargach
Liczba otrzymanych ofert: 2
Źródło: OJS 2014/S 032-051437 (2014-02-12)