Dostawa systemu osadzania warstw atomowych (ALD) wraz z wyposażeniem dla Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych w Warszawie

Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych

Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa fabrycznie nowego systemu osadzania warstw atomowych – (ALD - atomic layer deposition) wraz z wyposażeniem, przeznaczonego do osadzania warstw półprzewodników i dielektryków w trzech trybach:
a) Termicznego ALD
b) Termicznego ALD w trybie ekspozycji (tryb wzmocnionej dyfuzji reagentów)
c) Osadzania ALD wspomaganego plazmą.
Osadzanie warstw ma się odbywać na półprzewodnikowych lub innych krystalicznych podłożach płaskich lub podłożach o powierzchniach rozwiniętych, których współczynnik kształtu (stosunek szerokości do głębokości rowka) jest rzędu kilkuset. Temperatura podłoża powinna być kontrolowana w zakresie do 500oC. Maksymalna średnica podłoża do 200mm. Wymagania Zamawiającego odnośnie parametrów technicznych systemu określa załącznik nr 1 do niniejszej siwz pt. „Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia”.
Przedmiot zamówienia obejmuje również:
(1) wykonanie testów odbiorczych systemu uruchomionego u Zamawiającego w zakresie podanym w tabeli nr 1,
(2) przeszkolenie pracowników Zamawiającego w zakresie obsługi systemu i oprogramowania w zakresie podanym w tabeli nr 1.
Zamawiający wymaga, aby urządzenia wchodzące w skład systemu podlegały serwisowaniu na terytorium Rzeczpospolitej Polskiej.

Termin
Termin składania ofert wynosił 2013-10-29. Zamówienie zostało opublikowane na stronie 2013-09-16.

Dostawcy
Następujący dostawcy są wymienieni w decyzjach o przyznaniu zamówienia lub innych dokumentach dotyczących zamówień:
Kto?

Co?

Historia zamówień
Data Dokument
2013-09-16 Ogłoszenie o zamówieniu
2014-02-12 Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia
Ogłoszenie o zamówieniu (2013-09-16)
Obiekt
Zakres zamówienia
Tytuł: Sprzęt laboratoryjny, optyczny i precyzyjny (z wyjątkiem szklanego)
Wielkość lub zakres:
“Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa fabrycznie nowego systemu osadzania warstw atomowych – (ALD - atomic layer deposition) wraz z wyposażeniem,...”    Pokaż więcej
Całkowita wartość zamówienia: 1 544 000 💰
Metadane ogłoszenia
Język oryginału: polski 🗣️
Typ dokumentu: Ogłoszenie o zamówieniu
Rodzaj zamówienia: Dostawy
Regulacja: Unia Europejska
Wspólny słownik zamówień (CPV)
Kod: Sprzęt laboratoryjny, optyczny i precyzyjny (z wyjątkiem szklanego) 📦

Procedura
Typ procedury: Procedura otwarta
Typ oferty: Wniosek dotyczący wszystkich partii
Kryteria przyznawania nagród
Najniższa cena

Instytucja zamawiająca
Tożsamość
Kraj: Polska 🇵🇱
Typ instytucji zamawiającej: Inne
Nazwa instytucji zamawiającej: Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Adres pocztowy: Wólczyńska 133
Kod pocztowy: 01-919
Miasto pocztowe: Warszawa
Kontakt
Adres internetowy: http://www.itme.edu.pl 🌏
E-mail: slawomir.strelau@itme.edu.pl 📧
Telefon: +48 228353536 📞
Fax: +48 228349220 📠

Odniesienie
Daty
Data wysłania: 2013-09-16 📅
Termin składania ofert: 2013-10-29 📅
Data publikacji: 2013-09-18 📅
Identyfikatory
Numer ogłoszenia: 2013/S 181-311931
Numer Dz.U.-S: 181
Źródło: OJS 2013/S 181-311931 (2013-09-16)
Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia (2014-02-12)
Obiekt
Zakres zamówienia
Całkowita wartość zamówienia: 1 544 000 💰
Metadane ogłoszenia
Typ dokumentu: Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia
Regulacja: Nie określono

Procedura
Typ oferty: Nie dotyczy

Odniesienie
Daty
Data wysłania: 2014-02-12 📅
Data publikacji: 2014-02-14 📅
Identyfikatory
Numer ogłoszenia: 2014/S 032-051437
Odnosi się do ogłoszenia: 2013/S 181-311931
Numer Dz.U.-S: 32
Źródło: OJS 2014/S 032-051437 (2014-02-12)
Powiązane wyszukiwania 🔍