dostawa wielozadaniowej aparatury ultrawysokopróżniowej przeznaczonej do nanoszenia cienkich warstw i układów wielowarstwowych metodą PVD modyfikacji i kompleksowej analizy powierzchni metodami z rodziny spektroskopii fotoelektronów PES oraz mikroskopii skaningowej SPM w ramach Projektu Centrum Nanotechnologii Politechniki Gdańskiej

Politechnika Gdańska

1. Przedmiotem zamówienia jest dostawa oraz montaż Wielozadaniowej aparatury ultrawysokopróżniowej (UHV
– ang. Ultra High Vacuum) przeznaczonej do nanoszenia cienkich warstw i układów wielowarstwowych metodą PVD (ang. Physical Vapor Deposition), modyfikacji i kompleksowej analizy powierzchni metodami z rodziny spektroskopii fotoelektronów PES (ang. Photoemission Spectroscopy) oraz mikroskopii skaningowej SPM (ang. Scanning Probe Microscopy).
2. Szczegółowy opis przedmiotu zamówienia, minimalne parametry techniczne zawiera załącznik nr 7 do SIWZ.
3. Warunki dostawy i montażu:
Wykonawca zobowiązany jest do pisemnego powiadomienia pracownika Zamawiającego wskazanego w umowie – załącznik nr 5 do SIWZ na minimum 14 dni przed planowaną dostawą w przeciwnym wypadku Zamawiający będzie uprawniony do odmowy wstępu na miejsce realizacji zamówienia.
Dostawa zostanie uznana za zrealizowaną w momencie podpisania protokołu odbioru bez zastrzeżeń przez przedstawiciela Wykonawcy i Zamawiającego.
W przypadku stwierdzenia niezgodności dostawy z SIWZ lub ofertą Zamawiający odmówi odbioru. Odbiór odbędzie się m. in. na podstawie warunków odbioru określonych w pkt 4.
Szczegółowe informacje dotyczące warunków odbioru zawarte są we wzorze umowy będącym załącznikiem nr 5 do SIWZ.
Plan sytuacyjny – pomieszczenia - 0/18 oraz piętra, na którym zlokalizowane jest docelowe miejsce realizacji dostawy i kalibracji przedstawiają załączniki techniczne (1 oraz 2) oraz rysunek zamieszczony w załączniku nr 7 do SIWZ.
4. Warunki podlegające szczególnej ocenie podczas odbioru
Warunki dla układu ultra-wysokiej próżni
- próżnia mniejsza niż 3—10-10 mbar (tylko przy odbiorze), w czasie normalnego użytkowania gwarantowana próżnia bazowa uzyskiwana w układzie poniżej 1—10-10 mbar)
- temperatura uzyskiwana podczas grzania oporowego z układem chłodzenia za pomocą ciekłego azotu w przedziale 140-880K
- temperatura uzyskiwana podczas grzania wiązką elektronów z układem chłodzenia za pomocą ciekłego azotu w przedziale 140-930K
Warunki dla układu SPM
- tryb STM: uzyskanie rozdzielczości atomowej dla Si(111) w temperaturze pokojowej w warunkach ultra wysokiej próżni
- tryb AFM, tryb kontaktowy: uzyskanie rozdzielczości atomowej dla HOPG w temperaturze pokojowej w warunkach ultra wysokiej próżni
- tryb AFM, tryb bezkontaktowy: uzyskanie obrazu uskoków atomowych dla Si(111) w temperaturze pokojowej w warunkach ultra wysokiej próżni w przypadku ogrzewania próbki:
uzyskanie obrazu uskoków mono-atomowych dla Si(111) w temperaturze 450K w trybie STM
Warunki dla modułu analitycznego spektroskopii fotoelektronów XPS
Sygnał XPS dla Ag3d5/2 dla MgKα (300W)
Rozdzielczość FWHM – 0,85 eV
Natężenie – 2000 kcps
Moduł wzrostu warstw PVD
Dostarczenie 2 targetów ITO oraz Zn i naniesienie struktury wielowarstwowej zadanej przez użytkownika.
5. Wykonawca zapewnia gwarancję (min. 12 miesięcy)– szczegółowe informacje zawarte są w załączniku nr 5 do SIWZ- wzorze umowy.

Termin
Termin składania ofert wynosił 2013-08-21. Zamówienie zostało opublikowane na stronie 2013-07-11.

Dostawcy
Następujący dostawcy są wymienieni w decyzjach o przyznaniu zamówienia lub innych dokumentach dotyczących zamówień:

• • Omicron NanoTechnology GmbH

Kto?

• • Politechnika Gdańska

Co?

• • Sprzęt laboratoryjny, optyczny i precyzyjny (z wyjątkiem szklanego)

Gdzie?

• • Pomorskie › Gdański