Dostawa reaktora do termicznego utleniania powierzchni SiC i densyfikacji warstw w atmosferze o kontrolowanym składzie wraz z wyposażeniem dla Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych w Warszawie

Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych

Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa fabrycznie nowego
reaktora do termicznego utleniania powierzchni SiC i densyfikacji warstw w atmosferze o kontrolowanym składzie o następujących podstawowych funkcjach:
b) utleniania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych gazów
c) wygrzewania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych i palnych gazów
Temperatura procesu utleniania podłoża powinna być kontrolowana w zakresie do 1100oC. Maksymalna średnica podłoża do 150mm. Wymagania Zamawiającego odnośnie parametrów technicznych urządzenia określa załącznik nr 1 do niniejszej siwz pt. „Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia”.

Termin

Termin składania ofert wynosił 2014-07-03. Zamówienie zostało opublikowane na stronie 2014-05-23.

Dostawcy

Następujący dostawcy są wymienieni w decyzjach o przyznaniu zamówienia lub innych dokumentach dotyczących zamówień:

• ATV Technologie GmbH

Kto?

• Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych

Co?

• Sprzęt laboratoryjny, optyczny i precyzyjny (z wyjątkiem szklanego) › Aparatura kontrolna i badawcza

Gdzie?

• Miasto Warszawa

Historia zamówień

Data	Dokument
2014-05-23	Ogłoszenie o zamówieniu
2014-09-17	Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia

Ogłoszenie o zamówieniu (2014-05-23)
Obiekt
Zakres zamówienia
Tytuł: Aparatura kontrolna i badawcza
Wielkość lub zakres:

Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa fabrycznie nowegoreaktora do termicznego utleniania powierzchni SiC i densyfikacji warstw w atmosferze o kontrolowanym składzie o następujących podstawowych funkcjach:b) utleniania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych gazówc) wygrzewania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych i palnych gazówTemperatura procesu utleniania podłoża powinna być kontrolowana w zakresie do 1100oC. Maksymalna średnica podłoża do 150mm. Wymagania Zamawiającego odnośnie parametrów technicznych urządzenia określa załącznik nr 1 do niniejszej siwz pt. „Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia”.250 000

Całkowita wartość zamówienia: 250 000 💰
Metadane ogłoszenia
Język oryginału: polski 🗣️
Typ dokumentu: Ogłoszenie o zamówieniu
Rodzaj zamówienia: Dostawy
Regulacja: Unia Europejska
Wspólny słownik zamówień (CPV)
Kod: Aparatura kontrolna i badawcza 📦

Procedura
Typ procedury: Procedura otwarta
Typ oferty: Wniosek dotyczący wszystkich partii
Kryteria przyznawania nagród
Najniższa cena

Instytucja zamawiająca
Tożsamość
Kraj: Polska 🇵🇱
Typ instytucji zamawiającej: Inne
Nazwa instytucji zamawiającej: Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Adres pocztowy: Wólczyńska 133
Kod pocztowy: 01-919
Miasto pocztowe: Warszawa
Kontakt
Adres internetowy: http://www.itme.edu.pl 🌏
E-mail: slawomir.strelau@itme.edu.pl 📧
Telefon: +48 228353536 📞
Fax: +48 228349220 📠

Odniesienie
Daty
Data wysłania: 2014-05-23 📅
Termin składania ofert: 2014-07-03 📅
Data publikacji: 2014-05-27 📅
Identyfikatory
Numer ogłoszenia: 2014/S 101-176355
Numer Dz.U.-S: 101

Obiekt
Zakres zamówienia
Krótki opis:

Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa fabrycznie nowego

reaktora do termicznego utleniania powierzchni SiC i densyfikacji warstw w atmosferze o kontrolowanym składzie o następujących podstawowych funkcjach:

b) utleniania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych gazów

c) wygrzewania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych i palnych gazów

Temperatura procesu utleniania podłoża powinna być kontrolowana w zakresie do 1100oC. Maksymalna średnica podłoża do 150mm. Wymagania Zamawiającego odnośnie parametrów technicznych urządzenia określa załącznik nr 1 do niniejszej siwz pt. „Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia”.

Wielkość lub zakres:

Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa fabrycznie nowego

reaktora do termicznego utleniania powierzchni SiC i densyfikacji warstw w atmosferze o kontrolowanym składzie o następujących podstawowych funkcjach:

b) utleniania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych gazów

c) wygrzewania płytek półprzewodnikowych w atmosferze toksycznych i palnych gazów

Czas trwania: 5 miesięcy
Numer referencyjny: ZP/008/2014

Informacje prawne, ekonomiczne, finansowe i techniczne
Warunki uczestnictwa
Zdolność do prowadzenia działalności zawodowej: Zgodnie z SIWZ
Sytuacja gospodarcza i finansowa: Zgodnie z SIWZ
Zdolności techniczne i zawodowe: Zgodnie z SIWZ
Realizacja zamówienia
Wymagane depozyty i gwarancje:

VIII. Wymagania dotyczące wadium:

1. W niniejszym postępowaniu Zamawiający wymaga wniesienia wadium w wysokości 25 000 zł (słownie: dwadzieścia pięć tysięcy złotych).

2. Wadium wnosi się przed upływem terminu składania ofert.

3. Wadium może być wnoszone w jednej lub kilku następujących formach:

a) pieniądzu;

b) poręczeniach bankowych lub poręczeniach spółdzielczej kasy oszczędnościowo-kredytowej, z tym że poręczenie kasy jest zawsze poręczeniem pieniężnym;

c) gwarancjach bankowych;

d) gwarancjach ubezpieczeniowych;

e) poręczeniach udzielanych przez podmioty, o których mowa w art. 6b ust. 5 pkt 2 ustawy z dnia 9 listopada 2000 r. o utworzeniu Polskiej Agencji Rozwoju Przedsiębiorczości (Dz. U. Z 2007 r. Nr 42, poz. 275, z 2008 r. Nr 116, poz. 730 i 732 i Nr 227, poz. 1505 oraz z 2010 r. Nr 96, poz. 620).

4. Wadium wnoszone w pieniądzu wpłaca się przelewem na rachunek bankowy Zamawiającego: 73 1030 1032 0000 0000 0876 0304 z dopiskiem „WADIUM W PRZETARGU NIEOGRANICZONYM ZP/008/2014 NA DOSTAWĘ REAKTORA DO TERMICZNEGO UTLENIANIA POWIERZCHNI SIC I DENSYFIKACJI WARSTW W ATMOSFERZE O KONTROLOWANYM SKŁADZIE DLA ITME”.

5. Wadium wnoszone w innej formie, niż w pieniądzu powinno zostać złożone w kasie ITME w budynku nr 2 pokój 189 w dni robocze w godzinach 12:00 – 15:00 w zamkniętej kopercie opisanej jak oferta z dopiskiem „WADIUM W PRZETARGU NIEOGRANICZONYM ZP/008/2014 NA DOSTAWĘ NA DOSTAWĘ REAKTORA DO TERMICZNEGO UTLENIANIA POWIERZCHNI SIC I DENSYFIKACJI WARSTW W ATMOSFERZE O KONTROLOWANYM SKŁADZIE DLA ITME”. Wadium musi zachowywać ważność przez cały okres związania ofertą. Zawartość kopert zostanie sprawdzona w toku prac komisji przetargowej Zamawiającego związanych z analizą dokumentów przedłożonych przez Wykonawcę.

6. Wadium wniesione w pieniądzu Zamawiający przechowa na rachunku bankowym.

7. Zamawiający zwróci wadium wszystkim Wykonawcom niezwłocznie po wyborze oferty najkorzystniejszej lub unieważnieniu postępowania, z wyjątkiem Wykonawcy, którego oferta została wybrana jako najkorzystniejsza. Zamawiający zatrzyma wadium wraz z odsetkami, jeżeli Wykonawca w odpowiedzi na wezwanie Zamawiającego, o którym mowa w art. 26 ust. 3 Ustawy prawo zamówień publicznych, nie złożył dokumentów lub oświadczeń, o których mowa w art. 25 ust. 1 Ustawy, lub pełnomocnictw, chyba że udowodni, że wynika to z przyczyn nieleżących po jego stronie.

8. Wykonawcy, którego oferta została wybrana jako najkorzystniejsza, Zamawiający zwróci wadium niezwłocznie po zawarciu umowy w sprawie zamówienia publicznego oraz wniesieniu zabezpieczenia należytego wykonania umowy.

9. Zamawiający zwróci niezwłocznie wadium na wniosek Wykonawcy, który wycofał ofertę przed upływem terminu składania ofert.

10. Zamawiający żąda ponownego wniesienia wadium przez Wykonawcę, któremu zwrócono wadium na podstawie punktu 7 powyżej, jeżeli w wyniku rozstrzygnięcia odwołania jego oferta została wybrana jako najkorzystniejsza. Wykonawca wnosi wadium w terminie określonym przez Zamawiającego.

11. Jeżeli wadium wniesiono w pieniądzu, Zamawiający zwróci je wraz z odsetkami wynikającymi z umowy rachunku bankowego, na którym było ono przechowywane, pomniejszone o koszty prowadzenia rachunku bankowego oraz prowizji bankowej za przelew pieniędzy na rachunek bankowy wskazany przez Wykonawcę.

12. Zamawiający zatrzymuje wadium wraz z odsetkami, jeżeli Wykonawca, którego oferta została wybrana:

a) odmówił podpisania umowy w sprawie zamówienia publicznego na warunkach określonych w ofercie;

b) zawarcie umowy w sprawie zamówienia publicznego stało się niemożliwe z przyczyn leżących po stronie Wykonawcy.

Procedura
Okres ważności oferty: 60 dni
Data otwarcia ofert: 2014-07-03 📅
Miejsce otwarcia: Warszawa,ul Wólczyńska 133
Miejsce: Warszawa,ul Wólczyńska 133
Języki
Język: polski 🗣️

Instytucja zamawiająca
Tożsamość
Inny rodzaj instytucji zamawiającej: Other
Kontakt
Punkt kontaktowy: Sławomir Strelau

Odniesienie
Identyfikatory
Numer referencyjny nadany przez instytucję zamawiającą: ZP/008/2014

Informacje uzupełniające
Organ kontrolny
Nazwa: Urząd Zamówień Publicznych
Adres pocztowy: ul. Postępu 17a
Miasto pocztowe: Warszawa
Kod pocztowy: 02-676
Kraj: Polska 🇵🇱
Telefon: +48 224587701 📞
Informacje o terminach składania odwołań:

Odwołanie wnosi się w terminie 10 dni od dnia przesłania informacji o czynności Zamawiającego stanowiącej podstawę jego wniesienia – jeśli zostały przesłane faksem lub drogą elektroniczną albo w terminie 15 dni jeśli zostały przesłane w inny sposób.

Organ odpowiedzialny za procedury mediacyjne
Tak samo jak: Organ kontrolny
Źródło: OJS 2014/S 101-176355 (2014-05-23)

Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia (2014-09-17)
Obiekt
Zakres zamówienia
Całkowita wartość zamówienia: 1 088 976 💰
Metadane ogłoszenia
Typ dokumentu: Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia

Procedura
Typ oferty: Nie dotyczy

Odniesienie
Daty
Data wysłania: 2014-09-17 📅
Data publikacji: 2014-09-19 📅
Identyfikatory
Numer ogłoszenia: 2014/S 180-317344
Odnosi się do ogłoszenia: 2014/S 101-176355
Numer Dz.U.-S: 180

Obiekt
Zakres zamówienia
Numer referencyjny: ZP/008 /2014

Udzielenie zamówienia
Data zawarcia umowy: 2014-07-28 📅
Nazwa: ATV Technologie GmbH
Adres pocztowy: Joh.-Seb.-Bach.-Str. 38
Miasto pocztowe: Vaterstetten
Kod pocztowy: 85591
Kraj: Niemcy 🇩🇪
Informacje o przetargach
Liczba otrzymanych ofert: 1
Źródło: OJS 2014/S 180-317344 (2014-09-17)

Nowe zamówienia w powiązanych kategoriach 🆕

Sprzęt laboratoryjny, optyczny i precyzyjny (z wyjątkiem szklanego) (>20 nowe zamówienia)

Aparatura kontrolna i badawcza (>20)