Uniwersalna linia technologiczna do badań procesów wytwarzania nanostruktur i prototypów przyrządów półprzewodnikowych, nadprzewodnikowych i metalicznych (2)
Przedmiotem zamówienia jest wytworzenie i dostawa fabrycznie nowej komory do napylania cienkich warstw opartej na dziale elektronowym z działem jonowym w pełni kompatybilnej z procesami litograficznymi, pozwalająca na oczyszczenie próbki lub usunięcie warstwy izolatora przed napylaniem warstwy metalicznej wchodzącej w skład Uniwersalnej linii technologicznej do badań procesów wytwarzania nanostruktur i prototypów przyrządów półprzewodnikowych, nadprzewodnikowych i metalicznych wraz z pełnym wyposażeniem, instalacją, uruchomieniem i testowaniem.
Termin
Termin składania ofert wynosił 2014-10-27.
Zamówienie zostało opublikowane na stronie 2014-09-12.
Dostawcy
Następujący dostawcy są wymienieni w decyzjach o przyznaniu zamówienia lub innych dokumentach dotyczących zamówień:
Kto?
Co?
Historia zamówień
| Data |
Dokument |
| 2014-09-12
|
Ogłoszenie o zamówieniu
|
| 2014-11-17
|
Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia
|