Uniwersalna linia technologiczna do badań procesów wytwarzania nanostruktur i prototypów przyrządów półprzewodnikowych, nadprzewodnikowych i metalicznych
Przedmiotem zamówienia jest dostawa fabrycznie nowego urządzenia do osadzania próżniowego warstw o wysokiej stałej dielektrycznej (Atomic Layer Deposition – ALD) wchodzącego w skład uniwersalnej linii technologicznej do badań procesów wytwarzania nanostruktur i prototypów przyrządów półprzewodnikowych, nadprzewodnikowych i metalicznych wraz z pełnym wyposażeniem, instalacją, uruchomieniem, testowaniem i szkoleniami.
Termin
Termin składania ofert wynosił 2015-03-26.
Zamówienie zostało opublikowane na stronie 2015-02-17.
Dostawcy
Następujący dostawcy są wymienieni w decyzjach o przyznaniu zamówienia lub innych dokumentach dotyczących zamówień:
Kto?
Co?
Historia zamówień
| Data |
Dokument |
| 2015-02-17
|
Ogłoszenie o zamówieniu
|
| 2015-03-12
|
Dodatkowe informacje
|
| 2015-04-30
|
Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia
|