Tekst
Przedmiotem zamówienia jest dostawa urządzenia do wzrostu ALD (Atomic Layer Deposition System – technika osadzania cienkich warstw) o następujących wymaganiach technicznych i funkcjonalnych:
— wyposażony w minimum 4 porty prekursorów ciekłych wraz z 4 zbiornikami oraz co najmniej 2 źródła grzane do minimum 300C wraz z 2 zbiornikami, źródła ciekłe wyposażone w system chłodzenia i stabilizację temperatury co najmniej 5oC poniżej temperatury otoczenia,
— z możliwością większej liczby portów,
— wyposażony w przynajmniej 1 linię gazową przystosowaną do pracy z gazami toksycznymi,
— certyfikowane do transportu cylindry prekursorów ciekłych o pojemności nie mniejszej niż 150 ml i nie większej niż 250 ml,
— z komorą reakcyjną o średnicy od 200 mm do 250 mm, instalowaną wewnątrz odseparowanej komory próżniowej,
— układ dostarczania prekursorów do wnętrza komory reakcyjnej musi uniemożliwiać mieszanie się substancji z 2 różnych pulsów,
— komora reakcyjna musi zapewniać jednorodną temperaturę procesu w całej swojej objętości (dzięki grzaniu komory reakcyjnej na wszystkich ścianach),
— z prekursorami materiałów tlenkowych w ilości co najmniej 300 ml AlO, 150 ml SiO, 100 ml TiO, 100 ml InO, 100 ml HfO, 300 ml ZnO, 150 ml ZrO i 100 ml MgO i 100 ml SnO,
— z chłodzeniem cieczą, wyposażone w układ chłodzenia oraz chiller,
— z kolumną ze stali nierdzewnej wypełnioną suchym granulatem do neutralizacji gazów wylotowych, tzw. „scrubber system”,
— z komputerem z systemem Windows zapewniającym dostęp do bazy danych z parametrami standardowych procesów wzrostu, w tym wzrostu warstw AZO, ITO, AlO, SiO, TiO, InO, HfO, ZnO, ZrO, MgO i SnO,
— z generatorem ozonu oraz dedykowaną linią do wnętrza komory reakcyjnej,
— z wbudowaną mikrowagą kwarcową do monitorowania procesu wzrostu warstw w czasie rzeczywistym,
— wstępny filtr zanieczyszczeń, który znajduje się za komorą reakcyjną a przed pompą próżniową
— wyposażony w pompę próżniową (w przypadku pompy olejowej konieczny jest dołączony filtr oleju z zapasem minimum 10 l),
— urządzenie musi dawać możliwość doposażenia systemu ALD o moduł plazmowy plazmy wzbudzanej pojemnościowo,
— z zestawem części eksploatacyjnych na okres 1 roku,
— z montażem i szkoleniem połączonym z przeprowadzeniem przynajmniej jednego pełnego procesu wzrostu ZrO lub HfO w miejscu instalacji.
Szczegółowy opis przedmiotu zamówienia został określony w SIWZ i we wzorze umowy, dostępne na stronie internetowej Zamawiającego
https://www.fuw.edu.pl/zamowienia-publiczne.html