Dostawa elektronolitografu (systemu do generacji wzorów wiązką elektronów) wraz z wyposażeniem dla Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych w Warszawie

Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych

Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa (rozumiana jako sprzedaż, dostarczenie do siedziby Zamawiającego, montaż oraz uruchomienie) elektronolitografu - to jest kompletnego systemu do generacj iwzorów wiązką elektronów (zwanego również systemem do elektronolitografii) wraz z wyposażeniem, przeznaczonego do:
1. wytwarzania fotomasek chromowych;
2. bezpośredniej generacji wzorów na podłożach półprzewodnikowych z wykorzystaniem znacznikówcentrujących;
3. wytwarzania matryc (form) dla technik nanoimprintu;
4. wytwarzania wielopoziomowych fazowych struktur dyfrakcyjnych z wykorzystaniem znaczników centrujących.
System do elektronolitografii obejmuje w szczególności:
1) jednostkę podstawową do generacji wzorów wiązką elektronów wraz z komputerem sterującym,oprogramowaniem i dokumentacją;
2) stację załadowczą;
3) kompletny automatyczny system stabilizacji temperatury jednostki podstawowej i stacji załadowczej;
4) automatyczny system próżniowy;
5) komputerowe stanowisko do przygotowywania i przetwarzania danych graficznych z oprogramowaniem i dokumentacją, w tym oprogramowanie do konwersji danych oraz korekty efektów związanych ze zjawiskiem sąsiedztwa.
Przedmiot zamówienia obejmuje również przeszkolenie wskazanych pracowników Zamawiającego w zakresie obsługi urządzenia.

Termin

Termin składania ofert wynosił 2011-11-24. Zamówienie zostało opublikowane na stronie 2011-10-10.

Kto?

• Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych

Co?

Gdzie?

• Miasto Warszawa

Historia zamówień

Data	Dokument
2011-10-10	Ogłoszenie o zamówieniu

Ogłoszenie o zamówieniu (2011-10-10)
Obiekt
Zakres zamówienia
Tytuł: Urządzenia elektroniczne, elektromechaniczne i elektrotechniczne
Wielkość lub zakres:

Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa (rozumiana jako sprzedaż, dostarczenie do siedziby Zamawiającego, montaż oraz uruchomienie) fabrycznie nowego elektronolitografu - to jest kompletnego systemu do generacji wzorów wiązką elektronów (zwanego również systemem do elektronolitografii) wraz z wyposażeniem, przeznaczonego do:1. wytwarzania fotomasek chromowych2. bezpośredniej generacji wzorów na podłożach półprzewodnikowych z wykorzystaniem znaczników centrujących3. wytwarzania matryc (form) dla technik nanoimprintu4. wytwarzania wielopoziomowych fazowych struktur dyfrakcyjnych z wykorzystaniem znaczników centrujących.System do elektronolitografii obejmuje w szczególności:1) jednostkę podstawową do generacji wzorów wiązką elektronów wraz z komputerem sterującym, oprogramowaniem i dokumentacją,2) stację załadowczą,3) kompletny automatyczny system stabilizacji temperatury jednostki podstawowej i stacji załadowczej,4) automatyczny system próżniowy,5) komputerowe stanowisko do przygotowywania i przetwarzania danych graficznych z oprogramowaniem i dokumentacją, w tym oprogramowanie do konwersji danych oraz korekty efektów związanych ze zjawiskiem sąsiedztwa.Przedmiot zamówienia obejmuje również:(1) wykonanie testów odbiorczych u producenta przed dostawą systemu co najmniej w zakresie podanym w Załączniku 6. Wymagania dotyczące szczegółowego opisu testów odbiorczych oferowanego systemu do elektronolitografii,(2) sprawdzenie spełnienia przez Zamawiającego warunków instalacji urządzenia przed jego dostawą, co najmniej w zakresie podanym w Załączniku 8. Wymagania dotyczące szczegółowego opisu warunków technicznych instalacji oferowanego systemu do elektronolitografii(3) wykonanie testów odbiorczych systemu uruchomionego u Zamawiającego co najmniej w zakresie podanym w Załączniku 6. Wymagania dotyczące szczegółowego opisu testów odbiorczych oferowanego systemu do elektronolitografii,(4) przeszkolenie wskazanych pracowników Zamawiającego w zakresie obsługi systemu i oprogramowania.System do elektronolitografii musi spełniać wymagania opisane w SIWZ a w szczególności określone w załączniku nr 1 do niniejszej specyfikacji pt. "Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia", który to załącznik stanowi integralną część SIWZ.30 000 000,00

Wielkość lub zakres

Całkowita wartość zamówienia: 30 000 000,00 💰
Metadane ogłoszenia
Język oryginału: polski 🗣️
Typ dokumentu: Ogłoszenie o zamówieniu
Rodzaj zamówienia: Dostawy
Regulacja: Unia Europejska
Wspólny słownik zamówień (CPV)
Kod: Urządzenia elektroniczne, elektromechaniczne i elektrotechniczne 📦

Procedura
Typ procedury: Procedura otwarta
Typ oferty: Wniosek dotyczący wszystkich partii
Kryteria przyznawania nagród
Oferta najbardziej korzystna ekonomicznie

Instytucja zamawiająca
Tożsamość
Kraj: Polska 🇵🇱
Typ instytucji zamawiającej: Inne
Nazwa instytucji zamawiającej: Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Adres pocztowy: Wólczyńska 133
Kod pocztowy: 01-919
Miasto pocztowe: Warszawa
Kontakt
Adres internetowy: http://www.itme.edu.pl 🌏
E-mail: slawomir.strelau@itme.edu.pl 📧
Telefon: +48 228353536 📞
Fax: +48 228349220 📠

Odniesienie
Daty
Data wysłania: 2011-10-10 📅
Termin składania ofert: 2011-11-24 📅
Data publikacji: 2011-10-14 📅
Identyfikatory
Numer ogłoszenia: 2011/S 198-322359
Numer Dz.U.-S: 198

Obiekt
Zakres zamówienia
Krótki opis:

1. wytwarzania fotomasek chromowych;

2. bezpośredniej generacji wzorów na podłożach półprzewodnikowych z wykorzystaniem znacznikówcentrujących;

3. wytwarzania matryc (form) dla technik nanoimprintu;

4. wytwarzania wielopoziomowych fazowych struktur dyfrakcyjnych z wykorzystaniem znaczników centrujących.

System do elektronolitografii obejmuje w szczególności:

1) jednostkę podstawową do generacji wzorów wiązką elektronów wraz z komputerem sterującym,oprogramowaniem i dokumentacją;

2) stację załadowczą;

3) kompletny automatyczny system stabilizacji temperatury jednostki podstawowej i stacji załadowczej;

4) automatyczny system próżniowy;

5) komputerowe stanowisko do przygotowywania i przetwarzania danych graficznych z oprogramowaniem i dokumentacją, w tym oprogramowanie do konwersji danych oraz korekty efektów związanych ze zjawiskiem sąsiedztwa.

Przedmiot zamówienia obejmuje również przeszkolenie wskazanych pracowników Zamawiającego w zakresie obsługi urządzenia.

Wielkość lub zakres:

1. wytwarzania fotomasek chromowych

2. bezpośredniej generacji wzorów na podłożach półprzewodnikowych z wykorzystaniem znaczników centrujących

3. wytwarzania matryc (form) dla technik nanoimprintu

4. wytwarzania wielopoziomowych fazowych struktur dyfrakcyjnych z wykorzystaniem znaczników centrujących.

System do elektronolitografii obejmuje w szczególności:

1) jednostkę podstawową do generacji wzorów wiązką elektronów wraz z komputerem sterującym, oprogramowaniem i dokumentacją,

2) stację załadowczą,

3) kompletny automatyczny system stabilizacji temperatury jednostki podstawowej i stacji załadowczej,

4) automatyczny system próżniowy,

Przedmiot zamówienia obejmuje również:

(1) wykonanie testów odbiorczych u producenta przed dostawą systemu co najmniej w zakresie podanym w Załączniku 6. Wymagania dotyczące szczegółowego opisu testów odbiorczych oferowanego systemu do elektronolitografii,

(2) sprawdzenie spełnienia przez Zamawiającego warunków instalacji urządzenia przed jego dostawą, co najmniej w zakresie podanym w Załączniku 8. Wymagania dotyczące szczegółowego opisu warunków technicznych instalacji oferowanego systemu do elektronolitografii

(3) wykonanie testów odbiorczych systemu uruchomionego u Zamawiającego co najmniej w zakresie podanym w Załączniku 6. Wymagania dotyczące szczegółowego opisu testów odbiorczych oferowanego systemu do elektronolitografii,

(4) przeszkolenie wskazanych pracowników Zamawiającego w zakresie obsługi systemu i oprogramowania.

System do elektronolitografii musi spełniać wymagania opisane w SIWZ a w szczególności określone w załączniku nr 1 do niniejszej specyfikacji pt. "Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia", który to załącznik stanowi integralną część SIWZ.

Czas trwania: 16 miesięcy
Numer referencyjny: ZP/027/2011
Nazwa projektu lub programu finansowanego przez UE: Centrum Mikro- i Nanotechnologii MINOS nr POIG.02.01.00-14-125/09.
Miejsce wykonania
Główne miejsce lub miejsce wykonywania działalności: Siedziba zamawiającego - budynek 5, Wólczyńska 133, 01-919 Warszawa.Polska.

Informacje prawne, ekonomiczne, finansowe i techniczne
Warunki uczestnictwa
Zdolność do prowadzenia działalności zawodowej:

O udzielenie zamówienia publicznego mogą ubiegać się Wykonawcy, którzy spełniają warunki udziału w postępowaniu to znaczy:

1. spełniają warunki określone w art. 22 i nie podlegają wykluczeniu z postępowania na podstawie art. 24 ustawy Pzp

2. spełniają wymagania określone w niniejszej specyfikacji istotnych warunków zamówienia

3. wypełnią i złożą formularz oferty stanowiący załącznik nr 2 do niniejszej specyfikacji wraz z wszystkimi wymaganymi dokumentami i zaświadczeniami.

Dokumentami składającymi się na ofertę są:

1. Formularz oferty (załącznik nr 2 do niniejszej specyfikacji istotnych warunków zamówienia) wypełniony i podpisany zgodnie z wymaganiami pkt IX.3 niniejszej specyfikacji.

2. Aktualny odpis z właściwego rejestru, jeżeli odrębne przepisy wymagają wpisu do rejestru w celu wykazania braku podstaw do wykluczenia w oparciu o art. 24 ust. 1 punkt 2 ustawy Pzp wystawiony nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu do składania ofert, a w stosunku do osób fizycznych oświadczenie w zakresie art 24 ust 1 pkt 2 ustawy Pzp

3. Aktualne zaświadczenie właściwego naczelnika urzędu skarbowego potwierdzające, że Wykonawca nie zalega z opłacaniem podatków, lub zaświadczenie, że uzyskał przewidziane prawem zwolnienie, odroczenie lub rozłożenie na raty zaległych płatności lub wstrzymanie w całości wykonania decyzji właściwego organu – wystawione nie wcześniej niż 3 miesiące przed upływem terminu składania ofert.

4. Aktualne zaświadczenie właściwego oddziału Zakładu Ubezpieczeń Społecznych lub Kasy Rolniczego Ubezpieczenia Społecznego potwierdzające, że Wykonawca nie zalega z opłacaniem składek na ubezpieczenie zdrowotne i społeczne, lub potwierdzenia, że uzyskał przewidziane prawem zwolnienie, odroczenie lub rozłożenie na raty zaległych płatności lub wstrzymanie w całości wykonania decyzji właściwego organu – wystawione nie wcześniej niż 3 miesiące przed upływem terminu składania ofert.

5. Aktualna informacja z Krajowego Rejestru Karnego w zakresie określonym w art. 24 ust. 1 pkt 4-8 ustawy Pzp., wystawiona nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu składania ofert. W przypadku wykonawcy mającego siedzibę na terytorium Rzeczypospolitej Polskiej, jeżeli osoby, o których mowa w art. 24 ust. 1 pkt 5-8 ustawy Pzp mają miejsce zamieszkania poza terytorium Rzeczypospolitej Polskiej, Wykonawca składa w odniesieniu do nich zaświadczenie właściwego organu sądowego albo administracyjnego miejsca zamieszkania dotyczące niekaralności tych osób w zakresie określonym w art. 24 ust. 1 pkt 5-8 ustawy Pzp, wystawione nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu składania ofert, a w przypadku, gdy w miejscu zamieszkania tych osób nie wydaje się takich zaświadczeń – dokument zawierający oświadczenie złożone przed notariuszem, właściwym organem sądowym, administracyjnym albo organem zawodowym lub gospodarczym miejsca zamieszkania tych osób.

6. Aktualna informacja z Krajowego Rejestru Karnego w zakresie określonym w art. 24 ust. 1 pkt 9 ustawy Pzp, wystawiona nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu składania wniosków o dopuszczenie do udziału w postępowaniu o udzielenie zamówienia publicznego albo składania ofert.

7. Oświadczenie o braku podstaw do wykluczenia, o treści zgodnej z załącznikiem 3a do SIWZ.

8. Oświadczenie o spełnianiu warunków udziału w postępowaniu, o treści zgodnej z załącznikiem 3b do SIWZ.

9. Wykaz wykonanych dostaw w zakresie niezbędnym do wykazania spełnienia warunku wiedzy i doświadczenia w okresie ostatnich trzech lat przed upływem terminu składania ofert, a jeżeli okres prowadzenia działalności jest krótszy – w tym okresie, z podaniem ich przedmiotu, wartości, dat wykonania i odbiorców oraz załączeniem dokumentów potwierdzających, że dostawy te zostały wykonane należycie. Zamawiający uzna warunek za spełniony, jeżeli Wykonawca, w okresie ostatnich trzech lat przed upływem terminu składania ofert, a jeżeli okres prowadzenia działalności jest krótszy – w tym okresie, wykonał należycie minimum trzy dostawy wraz z instalacją i uruchomieniem, z których co najmniej jedna miała wartość nie mniejszą niż 20 000 000 PLN netto, a każda obejmowała system do generacji wzorów wiązką elektronów posiadający co najmniej następujące cechy:

a) wiązka elektronów o zmiennym przekroju, maksymalny przekrój wiązki w płaszczyźnie naświetlanego podłoża co najmniej 2x2 μm2, rozmiary przekroju wiązki regulowane w całym zakresie (od zera do wymiaru maksymalnego) z krokiem równym lub mniejszym niż 5 nm,

b) naświetlanie wzoru w trybie ‘vector-scan’,

c) możliwość naświetlania wzoru przy ciągłym ruchu stołu (‘write-on-the-fly’),

d) możliwość naświetlania wzoru w wielu przejściach ze zmiennym podziałem pól naświetlania (w trybie ‘multi-pass’),

e) ciągła korekcja ogniskowania i odchylania wiązki w oparciu o optyczny pomiar odległości do powierzchni naświetlanej (korekta odchyłek od płaskości podłoża),

f) zakres przemieszczeń stołu roboczego co najmniej 200 x 200 mm2, interferometryczny system kontroli pozycji stołu o rozdzielczości co najmniej 1 nm,

g) stabilizacja temperatury w komorze roboczej co najmniej ± 0.05 K,

h) parametry generacji wzoru na maskach chromowych: powierzchnia naświetlania co najmniej 150 x 150 mm2, dokładność położenia elementów wzoru co najmniej 30 nm, dokładność nakładania się wzorów co najmniej 25 nm (wzór na masce w stosunku do średniej), powtarzalność wymiaru krytycznego co najmniej 25 nm,

i) parametry bezpośredniej generacji wzoru na podłożach ze znacznikami centrującymi: automatyczny tryb określania pozycji znaczników i wyznaczania korekt układów sterowania wiązką elektronów, powierzchnia naświetlania o średnicy co najmniej 125 mm, rozdzielczość (minimalny wymiar naświetlanego elementu) co najmniej 50 nm, dokładność centrowania wzorów do istniejącej topologii (wzajemnego nakładania się wzorów) co najmniej 30 nm, powtarzalność wymiaru krytycznego co najmniej 10 nm.

W przypadku, gdy wartość podanego w wykazie zamówienia została określona w walucie innej, niż złoty polski, zostanie ona przeliczona na PLN wg średniego kursu NBP na dzień publikacji ogłoszenia o zamówieniu w Dzienniku Urzędowym Unii Europejskiej. W przypadku, gdy w dniu publikacji ogłoszenia NBP nie opublikował średnich kursów walut, zostanie przyjęty pierwszy opublikowany po tej dacie średni kurs NBP.

Wzór formularza wykazu stanowi załącznik nr 5 do SIWZ. Zamawiający zastrzega sobie prawo do sprawdzenia informacji podanych przez Wykonawcę w wykazie, nie wyłączając sprawdzenia u wskazanego odbiorcy właściwości urządzenia, w tym wykonania wzoru testowego (pole 100 x 100 mm2, wymiar minimalny 100 nm, dane w formacie DXF dostarczone przez Zamawiającego), łącznie z procedurami przygotowania danych zawierającymi konwersję danych i korektę zjawiska sąsiedztwa (proximity effect) Zamawiający oczekiwać będzie w miarę potrzeb, współdziałania Wykonawcy na rzecz dokonania takiego sprawdzenia. Dojazd i pobyt przedstawicieli Zamawiającego do miejsca przeprowadzenia wizji lokalnej/prezentacji odbędzie się na koszt Zamawiającego.

Wykonawca może polegać na wiedzy i doświadczeniu innych podmiotów, niezależnie od charakteru prawnego łączących go z nimi stosunków, pod warunkiem, iż taki podmiot będzie brał udział w realizacji przedmiotowego zamówienia. W takiej sytuacji Wykonawca jest zobowiązany udowodnić Zamawiającemu, iż będzie dysponował zasobami niezbędnymi do realizacji zamówienia, w szczególności przedstawiając w tym celu pisemne zobowiązanie tych podmiotów do oddania mu do dyspozycji niezbędnych zasobów na okres korzystania z nich przy wykonaniu zamówienia. Jeżeli Wykonawca, wykazując spełnianie warunków opisanych przez Zamawiającego polega na zasobach innych podmiotów na zasadach określonych w art. 26. ust. 2b ustawy Pzp, Zamawiający żąda od Wykonawcy przedstawienia w odniesieniu do tych podmiotów dokumentów wymienionych w punkcie XIII w podpunktach 2-7.

10. Opłacona polisa, a w przypadku jej braku inny dokument potwierdzający, że Wykonawca jest ubezpieczony od odpowiedzialności cywilnej w zakresie prowadzonej działalności związanej z przedmiotem zamówienia. Zamawiający uzna warunek za spełniony, jeżeli wartość polisy wynosić będzie minimum 2 000 000 PLN. W przypadku, gdy wartość polisy została określona w walucie innej, niż złoty polski, zostanie ona przeliczona na PLN wg średniego kursu NBP na dzień publikacji ogłoszenia o zamówieniu w Dzienniku Urzędowym Unii Europejskiej. W przypadku, gdy w dniu publikacji ogłoszenia NBP nie opublikował średnich kursów walut, zostanie przyjęty pierwszy opublikowany po tej dacie średni kurs NBP.

11. Broszura (broszury) firmowe producenta zawierające informacje na temat podstawowych parametrów i funkcji oraz zdjęcia oferowanego systemu.

12. Szczegółowy opis testów odbiorczych wykonywanych u producenta przed dostawą urządzenia (Factory Acceptance Test) oraz testów odbiorczych wykonywanych u Zamawiającego po zainstalowaniu urządzenia (Customer Acceptance Test) zgodnie z wymaganiami określonymi w Załączniku 6 pt. „Wymagania dotyczące szczegółowego opisu testów odbiorczych oferowanego systemu do elektronolitografii.”

13. Szczegółowy opis (w szczególności techniczny) oferowanego systemu do elektronolitografii - zgodnie z wymaganiami określonymi w Załączniku 7 „Wymagania dotyczące szczegółowego opisu oferowanego systemu do elektronolitografii”.

14. Szczegółowe wymagania dotyczące warunków instalacji - zgodnie z wymaganiami określonymi w Załączniku 8 „Wymagania dotyczące opisu szczegółowych warunków technicznych instalacji oferowanego systemu do elektronolitografii”.

15. Wypełniona zgodnie z wymaganiami Zamawiającego we wszystkich/odpowiednich polach „Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia” (tabela nr 1 i tabela nr 2 w załączniku nr 1 do SIWZ).

16. Potwierdzenie wniesienia wadium.

Sytuacja gospodarcza i finansowa: Określono w punkcie III.2.1.
Minimalny poziom(y) standardów: Określono w punkcie III.2.1.
Zdolności techniczne i zawodowe: Określono w punkcie III.2.1.
Realizacja zamówienia
Wymagane depozyty i gwarancje:

W niniejszym postępowaniu Zamawiający wymaga:

1. wniesienia wadium w wysokości 300 000 PLN;

2. zabezpieczenia należytego wykonania umowy: 5 % ceny podanej w ofercie;

3. zabezpieczenia zaliczki (o ile będzie wymagana).

Inne szczególne warunki: Określono w punkcie III.2.1.

Procedura
Okres ważności oferty: 60 dni
Data otwarcia ofert: 2011-11-24 📅
Miejsce otwarcia:

Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych, budynek nr 2, pok. nr 114 (sala konferencyjna), ul. Wólczyńska133, 01-919 Warszawa.

Miejsce: Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych, budynek nr 2, pok. nr 114 (sala konferencyjna), ul. Wólczyńska133, 01-919 Warszawa.
Kryteria przyznawania nagród
Kryterium: 1. Cena (70)
2. Wybrane parametry techniczne podlegające ocenie punktowej (30)
Języki
Język: polski 🗣️

Instytucja zamawiająca
Tożsamość
Inny rodzaj instytucji zamawiającej: Other
Kontakt
Punkt kontaktowy: Budynek 2 pokój 162, Wólczyńska 133, 01-919 Warszawa, Polska
Sławomir Strelau

Odniesienie
Identyfikatory
Numer referencyjny nadany przez instytucję zamawiającą: ZP/027/2011

Informacje uzupełniające
Organ kontrolny
Nazwa: Urząd Zamówień Publicznych
Adres pocztowy: Postępu 17A
Miasto pocztowe: Warszawa
Kod pocztowy: 02-676
Kraj: Polska 🇵🇱
Telefon: +48 224587706 📞
Fax: +48 224587700 📠
Organ odpowiedzialny za procedury mediacyjne
Tak samo jak: Organ kontrolny
Źródło: OJS 2011/S 198-322359 (2011-10-10)

Nowe zamówienia w powiązanych kategoriach 🆕

Maszyny, aparatura, urządzenia i wyroby elektryczne; oświetlenie (>20 nowe zamówienia)

Urządzenia elektroniczne, elektromechaniczne i elektrotechniczne (>20)