Sprzedaż i dostarczenie kompletnego systemu pomiarowego służącego do charakteryzacji warstw epitaksjalnych oraz warunków termicznych w reaktorze w trakcie procesu osadzania wraz z wyposażeniem dla Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych przy ul. Wólczyńskiej 133 w Warszawie
Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa (rozumiana jako sprzedaż, dostarczenie, montaż w siedzibie Zamawiającego oraz przeszkolenie personelu badawczego) kompletnego systemu pomiarowego służącego do charakteryzacji warstw epitaksjalnych oraz warunków termicznych w reaktorze w trakcie procesu osadzania (nazywany dalej „systemem in-situ”) w urządzeniu AIX-200/4RF-S (#200010) z reaktorem poziomym (1x2” podłoże), służącym do epitaksji materiałów III-N metodą MOVPE oraz pozostałych komponentów wchodzących w skład przedmiotu zamówienia, dla Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych przy ul. Wólczyńskiej 133 w Warszawie. System pomiarowy wraz z wyposażeniem musi spełniać wymagania określone w „Szczegółowej charakterystyce przedmiotu zamówienia” stanowiącej załącznik nr 1 do specyfikacji.
Termin
Termin składania ofert wynosił 2011-02-24.
Zamówienie zostało opublikowane na stronie 2011-02-15.
Dostawcy
Następujący dostawcy są wymienieni w decyzjach o przyznaniu zamówienia lub innych dokumentach dotyczących zamówień:
Kto?
Co?
Historia zamówień
| Data |
Dokument |
| 2011-02-15
|
Ogłoszenie o zamówieniu
|
| 2011-11-25
|
Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia
|